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據(jù)外媒報(bào)道，韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院(KAIST)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理公司KAIST IP，已于當(dāng)?shù)貢r(shí)間11月29日向美國(guó)得克薩斯州聯(lián)邦法院對(duì)三星電子美國(guó)法人及格羅方德(GlobalFoundries)、高通(Qualcomm)等3家企業(yè)提起專(zhuān)利侵害訴訟，要求對(duì)方支付相關(guān)半導(dǎo)體技術(shù)的專(zhuān)利使用費(fèi)。KAIST方面稱(chēng)，以上三家企業(yè)在未經(jīng)許可的情況下擅自使用了首爾大學(xué)電氣信息工程系教授李鐘浩(Lee Jong ho)和KAIST共同擁有的半導(dǎo)體制造工藝技術(shù)。目前，該技術(shù)已經(jīng)被多家企業(yè)應(yīng)用在半導(dǎo)體產(chǎn)品中。美國(guó)英特爾公司2011年就在產(chǎn)品中使用了FinFET技術(shù)，并于2012年通過(guò)簽訂合同支付費(fèi)用的方式正式獲得了特許使用權(quán)。“三星通過(guò)擅自盜用這項(xiàng)發(fā)明大大降低了開(kāi)發(fā)時(shí)間和成本，不過(guò)李鐘浩教授發(fā)明者的地位和相關(guān)權(quán)益卻沒(méi)得到補(bǔ)償。”KAIST方面表示，雖然FinFET開(kāi)發(fā)當(dāng)時(shí)提出了協(xié)約，但三星電子并沒(méi)有接受，在2013年以后開(kāi)始使用FinFET制造手機(jī)半導(dǎo)體后拒絕支付專(zhuān)利使用費(fèi)。三星方面人士稱(chēng)，“案件正在訴訟中，因此不便單獨(dú)發(fā)表立場(chǎng)。”除了對(duì)三星、格羅方德和高通3家企業(yè)提起專(zhuān)利侵害訴訟之外，韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院還計(jì)劃起訴臺(tái)灣半導(dǎo)體制造商臺(tái)積電。據(jù)了解，目前專(zhuān)利侵權(quán)證據(jù)正在準(zhǔn)備當(dāng)中。
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