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據(jù)外媒報道，韓國科學(xué)技術(shù)院(KAIST)的知識產(chǎn)權(quán)管理公司KAIST IP，已于當(dāng)?shù)貢r間11月29日向美國得克薩斯州聯(lián)邦法院對三星電子美國法人及格羅方德(GlobalFoundries)、高通(Qualcomm)等3家企業(yè)提起專利侵害訴訟，要求對方支付相關(guān)半導(dǎo)體技術(shù)的專利使用費。KAIST方面稱，以上三家企業(yè)在未經(jīng)許可的情況下擅自使用了首爾大學(xué)電氣信息工程系教授李鐘浩(Lee Jong ho)和KAIST共同擁有的半導(dǎo)體制造工藝技術(shù)。目前，該技術(shù)已經(jīng)被多家企業(yè)應(yīng)用在半導(dǎo)體產(chǎn)品中。美國英特爾公司2011年就在產(chǎn)品中使用了FinFET技術(shù)，并于2012年通過簽訂合同支付費用的方式正式獲得了特許使用權(quán)。“三星通過擅自盜用這項發(fā)明大大降低了開發(fā)時間和成本，不過李鐘浩教授發(fā)明者的地位和相關(guān)權(quán)益卻沒得到補(bǔ)償。”KAIST方面表示，雖然FinFET開發(fā)當(dāng)時提出了協(xié)約，但三星電子并沒有接受，在2013年以后開始使用FinFET制造手機(jī)半導(dǎo)體后拒絕支付專利使用費。三星方面人士稱，“案件正在訴訟中，因此不便單獨發(fā)表立場。”除了對三星、格羅方德和高通3家企業(yè)提起專利侵害訴訟之外，韓國科學(xué)技術(shù)院還計劃起訴臺灣半導(dǎo)體制造商臺積電。據(jù)了解，目前專利侵權(quán)證據(jù)正在準(zhǔn)備當(dāng)中。
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